{"id":6822,"date":"2026-03-26T17:00:12","date_gmt":"2026-03-26T21:00:12","guid":{"rendered":"https:\/\/ermdigital.com\/index.php\/2026\/03\/26\/china-ha-pasado-al-ataque-en-la-industria-de-los-chips-ha-encontrado-la-forma-de-bloquear-el-desarrollo-tecnologico-de-asml\/"},"modified":"2026-03-26T17:00:12","modified_gmt":"2026-03-26T21:00:12","slug":"china-ha-pasado-al-ataque-en-la-industria-de-los-chips-ha-encontrado-la-forma-de-bloquear-el-desarrollo-tecnologico-de-asml","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/ermdigital.com\/index.php\/2026\/03\/26\/china-ha-pasado-al-ataque-en-la-industria-de-los-chips-ha-encontrado-la-forma-de-bloquear-el-desarrollo-tecnologico-de-asml\/","title":{"rendered":"China ha pasado al ataque en la industria de los chips: ha encontrado la forma de bloquear el desarrollo tecnol\u00f3gico de ASML"},"content":{"rendered":"

\n \"China\n <\/p>\n

China parece tener muy claro qu\u00e9 debe hacer<\/a> para salir airosa de la contienda que sostiene con EEUU en el crucial escenario de los semiconductores. Sin chips avanzados 100% chinos<\/strong> su capacidad militar, el desarrollo de sus modelos de inteligencia artificial<\/a> (IA) y la competitividad de sus empresas de tecnolog\u00eda se resentir\u00e1n a medio plazo. En esta coyuntura necesita desarrollar sus propios equipos de fotolitograf\u00eda de ultravioleta extremo<\/a> (UVE), que son las m\u00e1quinas apropiadas para fabricar circuitos integrados de vanguardia, lo antes posible. Pero ponerlas a punto no es nada f\u00e1cil.<\/p>\n

<\/p>\n

Los ingenieros de algunas compa\u00f1\u00edas chinas, como Huawei, SMIC o SMEE, y los investigadores de varias instituciones cient\u00edficas, como la Universidad Tsinghua o la academia China de Ciencias, est\u00e1n combinando t\u00e9cnicas de ingenier\u00eda inversa aplicadas a los equipos de fotolitograf\u00eda de ultravioleta profundo<\/a> (UVP) de ASML que tiene en su poder e innovaciones ideadas por ellos mismos. Es el camino l\u00f3gico. Sin embargo, que est\u00e9n utilizando ingenier\u00eda inversa<\/a> no implica que debamos concluir que solo saben \"copiar\". La capacidad de innovaci\u00f3n de China est\u00e1, objetivamente, fuera de toda duda.<\/p>\n

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China est\u00e1 registrando patentes cr\u00edticas para protegerse y debilitar a ASML<\/h2>\n

Durante lo que llevamos del mes de marzo Huawei, SMEE y la Universidad Tsinghua, entre otras entidades chinas, han registrado un volumen inusualmente elevado de patentes<\/a> vinculadas al desarrollo de equipos de fotolitograf\u00eda. Lo que China pretende es, ante todo, proteger su propiedad intelectual. Pero la naturaleza de algunas de sus \u00faltimas patentes refleja que tambi\u00e9n persigue bloquear a ASML<\/a> y algunos de sus proveedores esenciales, como ZEISS o TRUMPF. Y lo est\u00e1 haciendo registrando patentes vinculadas directamente a la pr\u00f3xima generaci\u00f3n de equipos de fotolitograf\u00eda, por lo que se est\u00e1 adue\u00f1ando del camino que ASML tendr\u00e1 que transitar en el futuro.<\/p>\n

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\n \"El
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\n En Xataka<\/a>\n <\/div>\n

El mejor matem\u00e1tico del mundo est\u00e1 resolviendo uno de los problemas m\u00e1s complejos de la historia con un aliado: la IA<\/a>\n <\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/div>\n

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Varias de estas patentes cr\u00edticas describen innovaciones fundamentales acerca de la tecnolog\u00eda SSMB-UVE<\/p>\n<\/p><\/div>\n<\/div>\n

Varias de estas patentes cr\u00edticas<\/a> han sido registradas por la Universidad Tsinghua y describen innovaciones fundamentales acerca de la tecnolog\u00eda SSMB-UVE<\/a> (Steady-State Micro-Bunching-UVE<\/em>), que podemos traducir como Microagrupamiento en estado estacionario para la generaci\u00f3n de radiaci\u00f3n UVE<\/strong>. Esta tecnolog\u00eda persigue generar esta radiaci\u00f3n tan importante para producir chips avanzados utilizando un sincrotr\u00f3n<\/a>, que no es otra cosa que un acelerador de part\u00edculas circular que se utiliza para analizar a nivel at\u00f3mico las propiedades de la materia.<\/p>\n

<\/p>\n

Una de las patentes registradas por este centro de investigaci\u00f3n chino describe c\u00f3mo se pueden organizar los electrones en un acelerador de part\u00edculas para conseguir que emitan luz coherente con una longitud de onda de 13,5 nm. Si durante la pr\u00f3xima d\u00e9cada la industria de los semiconductores decide que la vaporizaci\u00f3n con l\u00e1ser de las gotas de esta\u00f1o, que es la t\u00e9cnica que est\u00e1 utilizando ASML<\/a>, ha alcanzado su l\u00edmite t\u00e9rmico y los aceleradores representan la \u00fanica forma de alcanzar los 1.000 vatios de potencia necesarios para implementar la tecnolog\u00eda Hyper-NA<\/a>, China tendr\u00e1 bien agarrada la sart\u00e9n por el mango.<\/p>\n

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No obstante, esto no va solo de aceleradores de part\u00edculas. Huawei y SiCarrier han registrado varias patentes dedicadas a la litograf\u00eda por interferencia de radiaci\u00f3n UVE y a las fuentes de luz ultravioleta de tipo LDP<\/a> (descarga inducida por l\u00e1ser). Una de estas patentes cr\u00edticas describe una innovaci\u00f3n que emplea la interferometr\u00eda para generar patrones de resoluci\u00f3n nanom\u00e9trica sin depender de las complej\u00edsimas lentes de ZEISS<\/strong>. Si en alg\u00fan momento el desarrollo tecnol\u00f3gico lleva a ASML, ZEISS o cualquier otra compa\u00f1\u00eda occidental a este camino tendr\u00e1n que pagar a las entidades chinas, negociar un intercambio de propiedades intelectuales<\/a> o desarrollar sus propias innovaciones alternativas. Y hacerlo no es f\u00e1cil.<\/p>\n

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Imagen | Generada por Xataka con Gemini<\/p>\n

En Xataka | TSMC reconoce que se ha planteado llevarse sus f\u00e1bricas fuera de Taiw\u00e1n. Es imposible por un buen motivo<\/a><\/p>\n

En Xataka | El inminente cuello de botella en IA no es ni la RAM ni el gas: es que el nodo N3 de TSMC est\u00e1 absolutamente saturado<\/a><\/p>\n

–
La noticia
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\n China ha pasado al ataque en la industria de los chips: ha encontrado la forma de bloquear el desarrollo tecnol\u00f3gico de ASML <\/em>
\n <\/a>
\n fue publicada originalmente en
\n
\n Xataka <\/strong>
\n <\/a>
\n por
\n Laura L\u00f3pez
\n <\/a>
\n . <\/p>\n

\u00a0China parece tener muy claro qu\u00e9 debe hacer para salir airosa de la contienda que sostiene con EEUU en el crucial escenario de los semiconductores. Sin chips avanzados 100% chinos su capacidad militar, el desarrollo de sus modelos de inteligencia artificial (IA) y la competitividad de sus empresas de tecnolog\u00eda se resentir\u00e1n a medio plazo. En esta coyuntura necesita desarrollar sus propios equipos de fotolitograf\u00eda de ultravioleta extremo (UVE), que son las m\u00e1quinas apropiadas para fabricar circuitos integrados de vanguardia, lo antes posible. Pero ponerlas a punto no es nada f\u00e1cil.<\/p>\n

Los ingenieros de algunas compa\u00f1\u00edas chinas, como Huawei, SMIC o SMEE, y los investigadores de varias instituciones cient\u00edficas, como la Universidad Tsinghua o la academia China de Ciencias, est\u00e1n combinando t\u00e9cnicas de ingenier\u00eda inversa aplicadas a los equipos de fotolitograf\u00eda de ultravioleta profundo (UVP) de ASML que tiene en su poder e innovaciones ideadas por ellos mismos. Es el camino l\u00f3gico. Sin embargo, que est\u00e9n utilizando ingenier\u00eda inversa no implica que debamos concluir que solo saben \"copiar\". La capacidad de innovaci\u00f3n de China est\u00e1, objetivamente, fuera de toda duda.<\/p>\n

China est\u00e1 registrando patentes cr\u00edticas para protegerse y debilitar a ASMLDurante lo que llevamos del mes de marzo Huawei, SMEE y la Universidad Tsinghua, entre otras entidades chinas, han registrado un volumen inusualmente elevado de patentes vinculadas al desarrollo de equipos de fotolitograf\u00eda. Lo que China pretende es, ante todo, proteger su propiedad intelectual. Pero la naturaleza de algunas de sus \u00faltimas patentes refleja que tambi\u00e9n persigue bloquear a ASML y algunos de sus proveedores esenciales, como ZEISS o TRUMPF. Y lo est\u00e1 haciendo registrando patentes vinculadas directamente a la pr\u00f3xima generaci\u00f3n de equipos de fotolitograf\u00eda, por lo que se est\u00e1 adue\u00f1ando del camino que ASML tendr\u00e1 que transitar en el futuro.<\/p>\n

En Xataka<\/p>\n

El mejor matem\u00e1tico del mundo est\u00e1 resolviendo uno de los problemas m\u00e1s complejos de la historia con un aliado: la IA<\/p>\n

Varias de estas patentes cr\u00edticas describen innovaciones fundamentales acerca de la tecnolog\u00eda SSMB-UVE<\/p>\n

Varias de estas patentes cr\u00edticas han sido registradas por la Universidad Tsinghua y describen innovaciones fundamentales acerca de la tecnolog\u00eda SSMB-UVE (Steady-State Micro-Bunching-UVE), que podemos traducir como Microagrupamiento en estado estacionario para la generaci\u00f3n de radiaci\u00f3n UVE. Esta tecnolog\u00eda persigue generar esta radiaci\u00f3n tan importante para producir chips avanzados utilizando un sincrotr\u00f3n, que no es otra cosa que un acelerador de part\u00edculas circular que se utiliza para analizar a nivel at\u00f3mico las propiedades de la materia.<\/p>\n

Una de las patentes registradas por este centro de investigaci\u00f3n chino describe c\u00f3mo se pueden organizar los electrones en un acelerador de part\u00edculas para conseguir que emitan luz coherente con una longitud de onda de 13,5 nm. Si durante la pr\u00f3xima d\u00e9cada la industria de los semiconductores decide que la vaporizaci\u00f3n con l\u00e1ser de las gotas de esta\u00f1o, que es la t\u00e9cnica que est\u00e1 utilizando ASML, ha alcanzado su l\u00edmite t\u00e9rmico y los aceleradores representan la \u00fanica forma de alcanzar los 1.000 vatios de potencia necesarios para implementar la tecnolog\u00eda Hyper-NA, China tendr\u00e1 bien agarrada la sart\u00e9n por el mango.<\/p>\n

No obstante, esto no va solo de aceleradores de part\u00edculas. Huawei y SiCarrier han registrado varias patentes dedicadas a la litograf\u00eda por interferencia de radiaci\u00f3n UVE y a las fuentes de luz ultravioleta de tipo LDP (descarga inducida por l\u00e1ser). Una de estas patentes cr\u00edticas describe una innovaci\u00f3n que emplea la interferometr\u00eda para generar patrones de resoluci\u00f3n nanom\u00e9trica sin depender de las complej\u00edsimas lentes de ZEISS. Si en alg\u00fan momento el desarrollo tecnol\u00f3gico lleva a ASML, ZEISS o cualquier otra compa\u00f1\u00eda occidental a este camino tendr\u00e1n que pagar a las entidades chinas, negociar un intercambio de propiedades intelectuales o desarrollar sus propias innovaciones alternativas. Y hacerlo no es f\u00e1cil.<\/p>\n

Imagen | Generada por Xataka con Gemini<\/p>\n

En Xataka | TSMC reconoce que se ha planteado llevarse sus f\u00e1bricas fuera de Taiw\u00e1n. Es imposible por un buen motivo<\/p>\n

En Xataka | El inminente cuello de botella en IA no es ni la RAM ni el gas: es que el nodo N3 de TSMC est\u00e1 absolutamente saturado<\/p>\n

– La noticia<\/p>\n

China ha pasado al ataque en la industria de los chips: ha encontrado la forma de bloquear el desarrollo tecnol\u00f3gico de ASML <\/p>\n

fue publicada originalmente en<\/p>\n

Xataka <\/p>\n

por
\n Laura L\u00f3pez<\/p>\n

.\u00a0\u00a0\u00a0<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

China parece tener muy claro qu\u00e9 debe hacer para salir airosa de la contienda que sostiene con EEUU en el crucial escenario de los semiconductores. Sin chips avanzados 100% chinos su capacidad militar, el desarrollo de sus modelos de inteligencia artificial (IA) y la competitividad de sus empresas de tecnolog\u00eda se resentir\u00e1n a medio plazo. […]<\/p>\n","protected":false},"author":1,"featured_media":6823,"comment_status":"open","ping_status":"open","sticky":false,"template":"","format":"standard","meta":{"amp_status":"","footnotes":""},"categories":[6],"tags":[],"class_list":["post-6822","post","type-post","status-publish","format-standard","has-post-thumbnail","hentry","category-ciencia-y-tecnologia"],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/ermdigital.com\/index.php\/wp-json\/wp\/v2\/posts\/6822","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/ermdigital.com\/index.php\/wp-json\/wp\/v2\/posts"}],"about":[{"href":"https:\/\/ermdigital.com\/index.php\/wp-json\/wp\/v2\/types\/post"}],"author":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/ermdigital.com\/index.php\/wp-json\/wp\/v2\/users\/1"}],"replies":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/ermdigital.com\/index.php\/wp-json\/wp\/v2\/comments?post=6822"}],"version-history":[{"count":0,"href":"https:\/\/ermdigital.com\/index.php\/wp-json\/wp\/v2\/posts\/6822\/revisions"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/ermdigital.com\/index.php\/wp-json\/wp\/v2\/media\/6823"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/ermdigital.com\/index.php\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=6822"}],"wp:term":[{"taxonomy":"category","embeddable":true,"href":"https:\/\/ermdigital.com\/index.php\/wp-json\/wp\/v2\/categories?post=6822"},{"taxonomy":"post_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/ermdigital.com\/index.php\/wp-json\/wp\/v2\/tags?post=6822"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}