{"id":13816,"date":"2026-04-07T05:27:00","date_gmt":"2026-04-07T09:27:00","guid":{"rendered":"https:\/\/ermdigital.com\/index.php\/2026\/04\/07\/eeuu-va-a-escalar-la-guerra-comercial-prepara-el-bloqueo-total-de-las-maquinas-de-fabricacion-de-chips-que-llegan-a-china\/"},"modified":"2026-04-07T05:27:00","modified_gmt":"2026-04-07T09:27:00","slug":"eeuu-va-a-escalar-la-guerra-comercial-prepara-el-bloqueo-total-de-las-maquinas-de-fabricacion-de-chips-que-llegan-a-china","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/ermdigital.com\/index.php\/2026\/04\/07\/eeuu-va-a-escalar-la-guerra-comercial-prepara-el-bloqueo-total-de-las-maquinas-de-fabricacion-de-chips-que-llegan-a-china\/","title":{"rendered":"EEUU va a escalar la guerra comercial: prepara el bloqueo total de las m\u00e1quinas de fabricaci\u00f3n de chips que llegan a China"},"content":{"rendered":"

\n \"EEUU\n <\/p>\n

EEUU lleva ya cinco a\u00f1os ejerciendo su capacidad de control de los equipos avanzados de fabricaci\u00f3n de circuitos integrados para impedir que lleguen a China. Es la estrategia con la que ha conseguido ralentizar<\/strong>, pero en absoluto frenar, el desarrollo tecnol\u00f3gico del pa\u00eds liderado por Xi Jinping. En 2021 aprob\u00f3 las primeras restricciones que impidieron que las m\u00e1quinas de fotolitograf\u00eda de ultravioleta extremo<\/a> (UVE) de ASML y otros equipos avanzados lleguen a China.<\/p>\n

<\/p>\n

Desde ese momento el Gobierno de EEUU ha continuado desplegando nuevas sanciones<\/a> con el prop\u00f3sito de limitar cada vez m\u00e1s el acceso de los fabricantes chinos de semiconductores a los equipos de litograf\u00eda y procesado de obleas que proceden no solo de EEUU, sino tambi\u00e9n de Pa\u00edses Bajos, Taiw\u00e1n, Corea del Sur o Jap\u00f3n. EEUU est\u00e1 ejerciendo la propiedad de algunas de las patentes<\/a> que utilizan esas m\u00e1quinas, y tambi\u00e9n su capacidad de influir en las decisiones que toman sus aliados.<\/p>\n

<\/p>\n

No obstante, la Administraci\u00f3n liderada por Donald Trump a\u00fan tiene margen para ce\u00f1ir m\u00e1s su cerco sobre China. Y presumiblemente va a hacerlo a corto plazo debido a que varios senadores pertenecientes a ambos partidos (Dem\u00f3cratas y Republicanos) han propuesto una nueva legislaci\u00f3n<\/a> que persigue imponer una prohibici\u00f3n esencialmente total de las exportaciones de equipos avanzados de fabricaci\u00f3n de chips y procesamiento de obleas a determinadas corporaciones de las naciones adversarias. Es evidente que China est\u00e1 en su punto de mira.<\/p>\n

<\/p>\n

Objetivo: impedir que las m\u00e1quinas de fotolitograf\u00eda UVP de ASML lleguen a China<\/h2>\n

Los equipos de litograf\u00eda de \u00faltima generaci\u00f3n son extraordinariamente complejos y sofisticados. Actualmente los m\u00e1s utilizados por los fabricantes de circuitos integrados para producir chips de vanguardia son las m\u00e1quinas de ultravioleta profundo (UVP) y las de ultravioleta extremo (UVE). A priori las m\u00e1quinas UVP son adecuadas para fabricar semiconductores de hasta 10 nm. Y con las UVE es posible llegar hasta los 2 nm. Sin embargo, refinando los procesos involucrados en la transferencia del patr\u00f3n a la oblea y recurriendo al multiple patterning<\/em> es posible ir m\u00e1s all\u00e1 de estas tecnolog\u00edas de integraci\u00f3n.<\/p>\n

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\n
\n
\n \"Occidente
\n <\/a>\n <\/div>\n
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\n En Xataka<\/a>\n <\/div>\n

Occidente dej\u00f3 de construir centrales nucleares porque eran demasiado caras: China le est\u00e1 dando una lecci\u00f3n<\/a>\n <\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/div>\n

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\n

EEUU tiene en el punto de mira sobre todo a SMIC, Huawei, Hua Hong Semiconductor, YMTC y CXMT<\/p>\n<\/p><\/div>\n<\/div>\n

Esta t\u00e9cnica a grandes rasgos consiste en transferir el patr\u00f3n a la oblea en varias pasadas con el prop\u00f3sito de incrementar la resoluci\u00f3n del proceso litogr\u00e1fico. Puede tener un impacto al alza en el coste de los chips y a la baja en la capacidad de producci\u00f3n, pero funciona. SMIC<\/a> (Semiconductor Manufacturing International Corp<\/em>), el mayor fabricante chino de semiconductores<\/strong>, ha recurrido al multiple patterning<\/em> para fabricar circuitos integrados de 7 nm<\/a> utilizando el equipo de litograf\u00eda UVP Twinscan NXT:2000i de ASML.<\/p>\n

<\/p>\n

Actualmente los controles de exportaci\u00f3n estadounidenses impiden la venta de equipos UVP a f\u00e1bricas concretas de China que pueden o no aparecer en la lista negra de EEUU, pero no proh\u00edben su venta a las compa\u00f1\u00edas propietarias de estas plantas. Esto es, precisamente, lo que persigue cambiar la Ley MATCH (Multilateral Alignment of Technology Controls on Hardware<\/em>) que han propuesto los senadores estadounidenses. En la pr\u00e1ctica esta propuesta impedir\u00e1, si prospera (y probablemente lo har\u00e1), que las m\u00e1quinas UVP de ASML y otros equipos avanzados de procesamiento de obleas lleguen a cualquier instalaci\u00f3n de los principales fabricantes chinos de chips.<\/p>\n

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EEUU tiene en el punto de mira a SMIC, Huawei, Hua Hong Semiconductor, YMTC y CXMT, y tambi\u00e9n a sus subsidiarias. Lo recoge claramente el documento publicado<\/a> por el senador Michael Baumgartner. En realidad esta propuesta no introduce nuevas restricciones; lo que hace es cambiar la forma en que se permite el env\u00edo<\/strong> de herramientas avanzadas para impedir que las compa\u00f1\u00edas chinas puedan seguir desarrollando t\u00e9cnicas sofisticadas, como el multiple patterning<\/em>, con el prop\u00f3sito de producir chips de vanguardia. Sea como sea a medio plazo China necesitar\u00e1 tener sus propias m\u00e1quinas de litograf\u00eda avanzadas<\/a> para poder sostener su desarrollo tecnol\u00f3gico.<\/p>\n

<\/p>\n

Imagen | Generada por Xataka con Gemini<\/p>\n

M\u00e1s informaci\u00f3n | Congressman Michael Baumgartner<\/a><\/p>\n

En Xataka | Ya sabemos c\u00f3mo ser\u00e1n los chips que llegar\u00e1n hasta 2039. La m\u00e1quina que permitir\u00e1 fabricarlos est\u00e1 cerca<\/a><\/p>\n

–
La noticia
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\n EEUU va a escalar la guerra comercial: prepara el bloqueo total de las m\u00e1quinas de fabricaci\u00f3n de chips que llegan a China <\/em>
\n <\/a>
\n fue publicada originalmente en
\n
\n Xataka <\/strong>
\n <\/a>
\n por
\n Laura L\u00f3pez
\n <\/a>
\n . <\/p>\n

\u00a0EEUU lleva ya cinco a\u00f1os ejerciendo su capacidad de control de los equipos avanzados de fabricaci\u00f3n de circuitos integrados para impedir que lleguen a China. Es la estrategia con la que ha conseguido ralentizar, pero en absoluto frenar, el desarrollo tecnol\u00f3gico del pa\u00eds liderado por Xi Jinping. En 2021 aprob\u00f3 las primeras restricciones que impidieron que las m\u00e1quinas de fotolitograf\u00eda de ultravioleta extremo (UVE) de ASML y otros equipos avanzados lleguen a China.<\/p>\n

Desde ese momento el Gobierno de EEUU ha continuado desplegando nuevas sanciones con el prop\u00f3sito de limitar cada vez m\u00e1s el acceso de los fabricantes chinos de semiconductores a los equipos de litograf\u00eda y procesado de obleas que proceden no solo de EEUU, sino tambi\u00e9n de Pa\u00edses Bajos, Taiw\u00e1n, Corea del Sur o Jap\u00f3n. EEUU est\u00e1 ejerciendo la propiedad de algunas de las patentes que utilizan esas m\u00e1quinas, y tambi\u00e9n su capacidad de influir en las decisiones que toman sus aliados.<\/p>\n

No obstante, la Administraci\u00f3n liderada por Donald Trump a\u00fan tiene margen para ce\u00f1ir m\u00e1s su cerco sobre China. Y presumiblemente va a hacerlo a corto plazo debido a que varios senadores pertenecientes a ambos partidos (Dem\u00f3cratas y Republicanos) han propuesto una nueva legislaci\u00f3n que persigue imponer una prohibici\u00f3n esencialmente total de las exportaciones de equipos avanzados de fabricaci\u00f3n de chips y procesamiento de obleas a determinadas corporaciones de las naciones adversarias. Es evidente que China est\u00e1 en su punto de mira.<\/p>\n

Objetivo: impedir que las m\u00e1quinas de fotolitograf\u00eda UVP de ASML lleguen a ChinaLos equipos de litograf\u00eda de \u00faltima generaci\u00f3n son extraordinariamente complejos y sofisticados. Actualmente los m\u00e1s utilizados por los fabricantes de circuitos integrados para producir chips de vanguardia son las m\u00e1quinas de ultravioleta profundo (UVP) y las de ultravioleta extremo (UVE). A priori las m\u00e1quinas UVP son adecuadas para fabricar semiconductores de hasta 10 nm. Y con las UVE es posible llegar hasta los 2 nm. Sin embargo, refinando los procesos involucrados en la transferencia del patr\u00f3n a la oblea y recurriendo al multiple patterning es posible ir m\u00e1s all\u00e1 de estas tecnolog\u00edas de integraci\u00f3n.<\/p>\n

En Xataka<\/p>\n

Occidente dej\u00f3 de construir centrales nucleares porque eran demasiado caras: China le est\u00e1 dando una lecci\u00f3n<\/p>\n

EEUU tiene en el punto de mira sobre todo a SMIC, Huawei, Hua Hong Semiconductor, YMTC y CXMT<\/p>\n

Esta t\u00e9cnica a grandes rasgos consiste en transferir el patr\u00f3n a la oblea en varias pasadas con el prop\u00f3sito de incrementar la resoluci\u00f3n del proceso litogr\u00e1fico. Puede tener un impacto al alza en el coste de los chips y a la baja en la capacidad de producci\u00f3n, pero funciona. SMIC (Semiconductor Manufacturing International Corp), el mayor fabricante chino de semiconductores, ha recurrido al multiple patterning para fabricar circuitos integrados de 7 nm utilizando el equipo de litograf\u00eda UVP Twinscan NXT:2000i de ASML.
\nActualmente los controles de exportaci\u00f3n estadounidenses impiden la venta de equipos UVP a f\u00e1bricas concretas de China que pueden o no aparecer en la lista negra de EEUU, pero no proh\u00edben su venta a las compa\u00f1\u00edas propietarias de estas plantas. Esto es, precisamente, lo que persigue cambiar la Ley MATCH (Multilateral Alignment of Technology Controls on Hardware) que han propuesto los senadores estadounidenses. En la pr\u00e1ctica esta propuesta impedir\u00e1, si prospera (y probablemente lo har\u00e1), que las m\u00e1quinas UVP de ASML y otros equipos avanzados de procesamiento de obleas lleguen a cualquier instalaci\u00f3n de los principales fabricantes chinos de chips.<\/p>\n

EEUU tiene en el punto de mira a SMIC, Huawei, Hua Hong Semiconductor, YMTC y CXMT, y tambi\u00e9n a sus subsidiarias. Lo recoge claramente el documento publicado por el senador Michael Baumgartner. En realidad esta propuesta no introduce nuevas restricciones; lo que hace es cambiar la forma en que se permite el env\u00edo de herramientas avanzadas para impedir que las compa\u00f1\u00edas chinas puedan seguir desarrollando t\u00e9cnicas sofisticadas, como el multiple patterning, con el prop\u00f3sito de producir chips de vanguardia. Sea como sea a medio plazo China necesitar\u00e1 tener sus propias m\u00e1quinas de litograf\u00eda avanzadas para poder sostener su desarrollo tecnol\u00f3gico.<\/p>\n

Imagen | Generada por Xataka con Gemini<\/p>\n

M\u00e1s informaci\u00f3n | Congressman Michael Baumgartner<\/p>\n

En Xataka | Ya sabemos c\u00f3mo ser\u00e1n los chips que llegar\u00e1n hasta 2039. La m\u00e1quina que permitir\u00e1 fabricarlos est\u00e1 cerca<\/p>\n

– La noticia<\/p>\n

EEUU va a escalar la guerra comercial: prepara el bloqueo total de las m\u00e1quinas de fabricaci\u00f3n de chips que llegan a China <\/p>\n

fue publicada originalmente en<\/p>\n

Xataka <\/p>\n

por
\n Laura L\u00f3pez<\/p>\n

.\u00a0\u00a0\u00a0<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

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